Описание

Серия MicroSys представляет бюджетную и универсальную платформу для процессов разнообразного травления и напыления на пластины или другие плоские образцы.

Хорошо зарекомендовавшие себя на рынке системы  MicroSys производства компании MicroSystems были разработаны как бюджетное, но высококачественное решение для различных применений в исследовательских работах и для мелкосерийного производства. Серия MicroSys представляет бюджетную и универсальную платформу для процессов разнообразного травления и напыления на пластины или другие плоские образцы. Регулируемый размер установки, а также ряд модульных и конфигурируемых источников и держателей подложек позволяет получить индивидуальный дизайн с точки зрения расположения установки и окончательного параметра процесса. Установки MicroSys оснащены держателями для работы со стандартными пластинами  100, 125, 150 и 200 мм. Нестандартные пластины и пластины других размеров также могут обрабатываться системой по согласованию с Заказчиком, максимальная высота нестандартного образца не должна превышать 15 мм. Загрузка образцов может осуществляться вручную или через автоматический загрузочный шлюз. При ручной загрузке каждый образец загружается отдельно. Автоматический загрузочный шлюз позволяет выполнять автоматическую загрузку образцов, не нарушая рабочего вакуума. 

 

Области применения 
  
Реактивное ионное травление (RIE) 

• Удаление резиста с масок;
• Высокопроизводительное травление металлов;
• Стандартные процессы травления на базе фтора для Si, SiO2 и Si3N4;
• Процессы травления на базе  хлора для сложных полупроводников и металлов

Плазмохимическое осаждение из паровой фазы (PECVD) 

• Напыление пленок а -Si, SiO2, Si3N4, SiONX и SiC для МЭМС, фотогальва-нические применения и датчики;
• Напыление диафрагм и пленок с углеродным покрытием (DLC film);
• Плазмостимулированная полимерии-зация, основанная на кремниево-органических прекурсорах (HMDSO, HMDSN, TEOS)

Дополнительные модули для технологий напыления пленок 

• Химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений (MOCVD);
• Атомно-слоевое осаждение (ALD) металлов и оксидов;
• Осаждение углеродных нанотрубок (CNT);
• Магнетронное напыление (PVD) металлов, оксидов, включая TCO и пьезоэлектрические плёнки;
• Могут быть интегрированы модули для ионного травления или ионно-лучевого напыления, основанные на производственной линии IonSys

 

Технические характеристики