Описание

Настольная система очистки V10-G была разработана специально для удаления фоторезиста, она идеально подходит для очистки полупроводниковых пластин и подложек.

Данная установка представляет собой настольную систему плазменной очистки, которая идеально подойдет для научно-исследовательских лабораторий и мелкосерийного производства.

Отличительные особенности:

• Кварцевая камера
• Сдвижная дверь
• PLC-контролер SPS (S7-300)
• Резистивный сенсорный экран операционной системой Windows
• Автоматический и ручной режимы
• Отображение важных параметров всех процессов
• Гибкие настройки доступа к управлению установкой
• Архивация всех процессов
• Возможность удалённого контроля
• Ethernet–интерфейс

Области применения:

• Обработка полупроводниковых и других пластин и подложек перед процессом жидкостной химической обработки  для улучшения смачиваемости поверхности и получения лучших и более однородных результатов
• Изготовление МЭМС и изделий сверхмалого размера
• Удаление полимеров (например, после Bosch-процессов)
• Удаление жертвенных органических слоёв
• Обработка биоактивных компаундов
• Идеально подходит для удаления фоторезиста после сухих процессов таких,  как реактивное ионное травление или электронно-лучевое травление

Опции:

• Вакуумная помпа
• Озоновая ловушка
• Вторая газовая линия
• Вращающийся барабан для мелких компонентов
• Ящик с полками
• Дистанционное управление
• И другие

Технические характеристики

• Размеры рабочей камеры: Ø215 мм, глубина: 260 мм.
• Частота генератора: 2,45 ГГц, 50 — 600 Вт
• Подача газа: Одна газовая магистраль с массовым расходомером с магнитным клапаном
• Эл. питание: 380 В, 50 Гц, 1,5 кВт
• Габаритные размеры: 720х820х820 мм
• Вес: 150 кг