Установка RAIDER создана для одно-пластинчатого, автоматизированного, многокамерного электрохимического осаждения 150 мм-300 мм пластин. Она обеспечивает высокую пропускную способность для обработки компактных пластин.

Для гальванического покрытия 300-мм пластин используется усовершенствованный камерный реактор, который для достижения однородности способен в динамическом режиме изменять плотность тока. Многозонная анодная матрица позволяет наносить гальваническое покрытие на ультратонкие и резистивные слои. Система позволяет уменьшить затраты за счет использования ионных мембран для продления срока службы устройства и сокращения времени простоя на «переучивание» автоматики.